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中国31城市集成电路流片支持政策大全

文章作者:政策扶持 上传时间:2020-04-18

7.鼓励集成电路企业实施知识产权战略,对申请并获得国内外发明专利的,参照《厦门市专利发展专项资金管理办法》(厦知〔2017〕13号)予以奖励和资助。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

十一、合肥高新区投资基金优先投资集成电路企业,积极协调各类金融机构为企业申请青年创业引导资金、助保贷、银政担等金融产品。

28、长沙

四、支持产业研发和核心技术攻关

10、常州

采购本地企业芯片或模组用于生产系统(整机)、终端等产品的本地企业,当年销售额10亿元以上的本地系统(整机)、终端企业采购本地集成电路企业芯片或模组的,对同一本地集成电路企业供应商的首批订单,按已支付实际采购金额(采购额)的40%给予本地系统(整机)、终端企业补助,单个企业年度补助总额不超过350万元,向关联企业的采购不计入资助核算采购费用总额。

5.1 浦口区

一、强化资金扶持,市财政每年结合产业发展需要安排重点公共创新平台建设专项资金支持微电子产业发展,尤其是第三代半导体产业(包括原材料、设计、生产、设备制造等)发展。

2019 年 5 月坪山区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

三、对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业(单位),给予MPW直接费用最高40%、年度总额不超过100万元的补贴。

工艺制程为 45nm 以上的,单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元。

产业园区研发、生产、办公用房租金补助

2017 年 9 月福州高新区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

8.对获得国内、外发明专利的企业,在现行政策奖励标准基础上追加50%奖励,单一企业年度最高限额提高到50万元。

2018 年 2 月西安国家自主创新示范区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

《长沙经济技术开发区促进集成电路产业发展实施办法》2018年

最高不超过 200 万元研发支持。

*本办法中工程产品是指经过全掩膜板(Full Mask)流片,达到设计要求后,可以提供给集成电路系统整机厂商进行芯片性能测试及示范应用的芯片产品。首轮流片是指集成电路设计企业首次与本市集成电路制造企业签订流片合同,利用其生产线实现线宽在45纳米及以下工程产品流片。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

二、 (1)对企业租用合肥高新区内研发和生产用房的,根据实际需求,1000平方米以内,按照先交后补的形式,前3年租金补贴100%,后2年租金补贴50%,补贴价格参照高新集团及其子公司开发用房的同期标准执行。(2)企业购置高新集团及其子公司的研发和生产用房,按其实际购置价格的10%给予补贴,单个企业最高不超过200万元。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元(其中区财政不超过 200 万元)。

九、支持公共平台建设。对新建的专业技术或综合科技服务平台,按照项目技术和设备投资的10%给予资助,每家资助最高不超过100万元。对公共服务平台(机构)根据服务中小企业的成果和业绩给予资助,每家资助最高不超过100万元,补助办法按照锡委发〔2015〕56号文件执行。

非本市 IC 设计企业工程产品委托本市集成电路制造企业完成首轮全掩模(Full Mask)工程产品流片,达到可以提供给集成电路系统整机厂商的芯片示范应用水准,给予本地集成电路制造企业代工的流片费用 2%的支持。

一、设立招商引资专项资金。高新区每年安排100亿元专项资金,支持招商引资和招才引智。

微电子设计企业参与研发的多项目晶圆(MPW),可享受最高不超过 MPW 直接费用 70%(高校或科研院所 MPW 直接费用 80%)、工程片试流片加工费 30%的支持。

四、科研鼓励政策

对集成电路设计企业用于研发的多项目晶圆(MPW),可享受多项目晶圆(MPW)直接费用 70%的支持、工程片试流片加工费 40%的支持。

六、金融扶持。支持滨海新区创业风险投资引导基金,积极参与对成长期、成熟期的集成电路设计企业的投资;支持集成电路设计企业贷款融资,优先给予集成电路设计企业政策性融资贷款担保;按照新区支持企业上市融资相关政策,优先支持集成电路设计企业上市融资。鼓励本地金融机构创新有利于集成电路设计企业发展的业务模式。

《纲要》的主要任务和发展重点是:着力发展集成电路设计业;加速发展集成电路制造业;提升先进封装测试业发展水平;突破集成电路关键装备和材料。

四、微电子设计企业参与研发的多项目晶圆(MPW),可享受最高不超过MPW直接费用70%(高校或科研院所MPW直接费用80%)、工程片试流片加工费30%的补助,每个企业(单位)年度补助总额不超过200万元。

企业进行工程流片,按照工程型号产品掩模版制作费用或首轮流片费用的 30%给予支持。

9.对在晋举办的国际性、全国性集成电路科技类论坛、展会等,分别按举办费用的50%、30%给予承办机构一次性补助,单场(次)最高限额分别为100万元和50万元。

2016 年 3 月南京市出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持

八、鼓励本市集成电路龙头骨干企业进行产业链垂直整合,支持其开展境内外非关联的并购重组,支持并购重组后首次成功进入世界500强或全球行业前10强的企业,享受相应鼓励政策;中小企业为大企业配套新建、扩建产业链项目,按中小企业发展技术改造项目资助标准予以扶持。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

2.对年度纳税总额增长10%以上、且向银行贷款的生产性企业、设计企业,分别按当年实际支付银行利息的30%、50%补贴,单一企业最高限额200万元。

2019 年 7 月芜湖市出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

《合肥高新区促进集成电路产业发展政策》2018年

单一企业年度支持总额最高不超过 1500 万元。

一、投融资政策

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元。

1.成立规模不低于500亿元(人民币)的厦门市集成电路产业投资基金,基金采取市场化运作。作为母基金,引导社会资本、产业资本和金融资本等投向集成电路产业。基金设立方式及管理办法另行明确。

2、上海

四、平台支撑。对经认定的滨海新区集成电路公共服务平台每年给予不超过100万元的运营经费补贴;对公共服务平台开展的EDA工具服务、MPW、测试服务等各项共性服务,按照实际服务成果给予每项服务不超过500万元的项目补贴。对集成电路企业间设备共享给予支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元。

三、对经核定的年度营业收入首次突破200亿元、100亿元、50亿元、10亿元的软件和集成电路企业,由市、区两级政府给予企业核心团队分级奖励;鼓励企业落户上海,对实际到位投资超过100亿元、50亿元、10亿元的新入沪的软件和集成电路企业,由相关区或园区分级给予企业研发资助。

对于使用多项目晶圆进行研发的设计企业,给予多项目晶圆直接流片费用最高 70%的支持。

安徽合肥

13、绍兴

6.IP购买、第三方IC设计平台使用补助

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元。

2.鼓励在区内新建(扩建)集成电路生产线(项目)、微机电系统(MEMS)、功率半导体器件和特色工艺项目(企业),对上述项目按年度实际新增固定资产投资额的10%给予补助,同一项目(企业)年度补助总额不超过100万元。

3.2 西青区

八、对区内集成电路企业获得知识产权的,每件按以下标准予以补贴:通过PCT途径申请国外专利并进入国家阶段的补贴5万元(限欧美日,同一专利最多补贴2个国家或地区);取得国外发明专利证书补贴3万元。以上每家企业补贴金额最高不超过100万元。国内发明专利取得专利证书的补贴0.8万元;取得集成电路布图设计证书超过6件以上的,按每件0.1万元补贴,以上补助每家最高不超过20万元。

2014 年 2 月天津滨海新区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

六、其他扶持政策

6、无锡

十五、为进一步强化集成电路产业招商,拓宽招商渠道,支持各类专业机构开展招商活动,对引资成功的给予奖励。

15、青岛

六 、对当年认定的国家级、省级企业技术中心,分别给予30万元、20万元的一次性奖励。

1、北京

七、鼓励银行等金融机构对集成电路企业给予信贷优惠,设立集成电路专项贷款和面向集成电路产业设计的金融产品。鼓励政府性融资担保机构为集成电路中小企业提供贷款担保,给予担保机构一定的风险补偿。

单一产品年度支持总额最高不超过 200 万元;同一企业每年支持上限为 500 万元。

b)无侵犯他人知识产权行为,能够提供使用合法IC设计软件工具进行芯片开发的证明;

在《纲要》的推动下,国内各大城市纷纷全面布署集成电路产业,并纷纷制定各种集成电路产业扶持政策。各地政策中都有专门条款针对流片进行支持。

三、大力引进和培育集成电路优质企业

工艺制程 40nm 以上产品支持总额不超过 300 万元,工艺制程达到 40nm-28nm(不含 28nm)产品支持总额不超过 500 万元,工艺制程达到 28nm 及以下产品支持总额不超过 800 万元。

湖南长沙

2019 年 8 月武汉东湖新技术开发区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

一、 场地补贴。对在长沙经开区内租用(实际租期为3年或以上)生产或研发场地的集成电路企业,在长沙经开区的年度纳税额首次达50万元的,自达标当年度起开始补贴。第一年租金按实际发生额全额进行补贴,第二年按实际发生额的50%进行补贴,第三年按实际发生额的30%进行补贴,同一企业累计补贴总额不超过200万元。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元。

自2015年以来,中国集成电路产业产值呈现了爆发性地成长。这一次由中国政府大力主导推动整体产业发展,先后颁布了《国务院关于印发进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》(国发〔2011〕4号)、《国家集成电路产业发展推进纲要》等政策。各地方政府为培育增长新动能,积极抢抓集成电路新一轮发展机遇,促进地区集成电路产业实现跨越式发展,也不断出台相关政策支持集成电路产业的发展。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

厦门市注册的集成电路企业、高校和科研院所,申请补助的项目承担单位应具备下列条件:

单一企业年度支持总额最高不超过 150 万元。

5.对经认定(认定办法另行出台)的工程技术研究中心、行业技术开发中心、重点实验室和企业技术中心,参照其新购置研发设备实际投入的30%予以补助,单一机构累计最高限额2000万元。

对注册在园区的集成电路制造、封装测试等企业,为园区集成电路设计企业提供流片、封装、测试服务的,给予实际服务金额 10%的支持。

三、建立总规模200亿元的南京市集成电路产业投资基金。产业基金首期规模60亿元,同时积极吸引金融机构、社会资金、股权投资基金以及各类风险投资等参与。

18、广州

五、对新引进生产性的集成电路企业,按照双向约束原则,给予企业实际发生研发费用10%补贴,单个企业每年补贴最高不超过1000万元。

29、成都

3.对在区内相关集成电路企业进行封装和测试的集成电路设计企业(不含IDM企业),给予封测费用5%的补贴,每家企业年度补贴总额不超过50万元。

分析:

二、鼓励国内外知名企业在我市设立独立法人的集成电路企业或研发机构,对到帐资金5000万元以上且正常运行1年以上的集成电路设计企业,给予到账资金5%的奖励,最高不超过300万。对引进总投资超过10亿元(含10亿元)的重大产业项目,补助金额按照锡委发〔2015〕56号文件执行。

16、合肥

五、微电子生产企业年度营业收入首次超过5000万元、1亿元、5亿元、10亿元的(其中,微电子设计企业年度销售额首次超过1000万元、3000万元、5000万元、1亿元的),结合实际贡献情况,分别给予企业最高不超过100万元、200万元、300万元、500万元的一次性奖励。

购买光罩(MASK)费用,给予 30%的支持。

4.对获国家自然科学奖、国家技术发明奖、国家科技进步奖、中国专利金奖的企业,在奖励企业政策基础上按上级奖励金额的50%奖励其创新团队或个人。

30、贵阳

3.集成电路企业增产奖励。本地集成电路企业(集成电路设计企业除外)收入首次超过1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的,自当年度起,连续3年将其新增增值税、企业所得税地方留成部分,分别按照50%、40%、30%、20%的比例,总额不超过500万元的标准奖励企业;本地集成电路设计企业年度销售额首次超过2000万元、5000万元、8000万元、1亿元的,自当年度起,连续3年将其新增增值税、企业所得税地方留成部分,分别按照50%、40%、30%、20%的比例,总额不超过500万元的标准奖励企业。企业每次上升奖励级别奖励标准相应提升,奖励年限重新核计3年。

对企业的多项目晶圆(MPW)试流片、全掩模(Full Mask)工程产品首次流片、购买 IP 核费用,给予实际发生额的 60%、50%、50%的支持。

a)具有一定数量的IC设计人才队伍,拥有开发自主知识产权芯片产品的能力;

于完成小于 90nm 全掩模(Full Mask)工程产品流片的项目,给予不超过流片费用(含掩模版),其中,工艺制程小于 90nm、大于 45nm(不含)的,单个项目最高扶持 50 万元,小于 45nm、大于 28nm(不含)的,单个项目最高扶持 200 万元,小于 28nm 的,单个项目最高扶持 300 万元;同一项目只扶持 1 次。

八、鼓励集成电路产业链上下游合作。对在本市集成电路生产企业进行重点支持领域的工程产品流片的设计企业,按该款产品掩膜版制作费用的60%或首轮流片费用的30%给予研发支持,单个企业每年最高不超过300万元。

同时政策规定,本地集成电路企业利用本地集成电路生产线流片,按首次工程流片费用(含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等)的 40%给予支持。

2、对利用北京市集成电路生产线开展符合一定条件的工程产品首轮流片的集成电路设计企业,给予按该款产品掩膜版制作费用60%或首轮流片费用30%的研发支持。

9、南通

二、落户奖励。对符合条件的新落户企业,给予最高1亿元的奖励。

2016 年 10 月晋江市出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持,2019 年 5 月对政策进行了修订、增补,于 2019 年 6 发布修订版。

十、对促进我市微电子产业发展的微电子重大公共研发平台,经市政府研究同意后,可给予每年最高3000万元的运营管理补贴和绩效奖励。

本地微电子设计企业利用本地芯片生产线流片,按首次工程流片费用(含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等)的 40%给予支持。(芜湖本地芯片生产线在哪里)

十二、 对向银行贷款的集成电路设计企业,按照贷款当年年初基准利率的50%给予贷款贴息补贴,单一企业每年最高贴息不超过100万元。

25、晋江

责任编辑:王晓宇

单一企业年度支持总额最高不超过 400 万元。

一、对总投资5000万元以上的集成电路企业,按实际到位资金的5%给予补贴,最高不超过500万元。

对利用晋华集成电路生产线流片的企业,按首次工程流片费用(含 IP 授权或购置费、掩模版费及流片加工费等)的 40%给予支持。

三、设立重庆市半导体产业发展基金,总规模为500亿元,一期规模为200亿元。基金基石资金由市、区两级共同筹措。对实际到位投资2000万元以上的集成电路设计类项目,按照12%的比例,给予不超过500万元的资金支持。对实际到位投资5亿元以上的集成电路制造、封测、装备、材料类项目,按照项目实际贷款利息50%的比例,给予不超过2000万元的贴息支持。对实际到位投资2000万元以下的集成电路设计类项目以及5亿元以下的集成电路制造、封测、装备、材料类项目,由所在区县(开发区)制定政策给予支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元。

晋江

给予不超过上一年多项目晶圆(MPW)流片(含掩模版)实际发生金额、单个项目最高 100 万元扶持,单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元。

一、落地扶持政策

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元。

本地集成电路企业利用本地非本企业集成电路生产线流片,按首次工程流片费用(含IP授权或购置、掩膜版制作、流片等)的40%给予补助,年度补助总额不超过500万元。

单一企业年度支持总额最高不超过 400 万元的资助。(有利于中芯国际深圳)

一、财政支持。设立集成电路设计产业促进专项资金,专项资金额度每年2亿元。

5、南京

(一)工程产品首次在本市集成电路生产线上完成流片;

2018 年 3 月成都市出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持 。

《晋江市加快培育集成电路全产业链的若干意见》2016年

22、福州

七、微电子产业集聚区相关企事业单位申请的微电子产业领域发明专利,在享受市科技创新系列政策的基础上,年申请量达10件、20件以上的,分别再给予10万元、20万元奖励;年授权量达5件、10件以上的,分别再给予10万元、20万元奖励;被授予国外发明专利的,每件发明专利每经一国授予再给予5万元奖励,单个企业最高不超过15万元。

对经过全掩模流片,以及首次与本市集成电路制造企业签订流片合同,利用其生产线实现线宽在 45 纳米及以下工程产品流片的设计企业,给予不超过产品流片费用(流片费包括:IP 授权费、掩模版费、测试化验加工费)的 30%的资金支持。

a)用于研发的集成电路企业MPW,按照不高于MPW直接费用70%进行资助,用于研发的集成电路企业工程片试流片按照不高于其加工费30%进行资助。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元。

3.支持首购首用:对坪山区内整机企业首购首用本辖区集成电路设计企业自主开发的芯片,按照采购金额的50%,一次性给予最高500万元的资助;

单一企业年度支持总额最高不超过 50 万元。

c)所研发的芯片产品应有较高的技术水平,市场竞争力强,具备产业化前景。

2018 年 8 月合肥高新区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

十四、全面实施合肥高新区集成电路企业上市战略,企业上市支持参照合肥高新区有关上市扶持政策执行。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

1.对经当年认定的国家集成电路设计企业(单位),通过《国家规划布局内重点软件企业和集成电路设计企业认定管理试行办法》认证的,一次性给予20万元奖励。

对集成电路设计企业拥有自主知识产权的产品进行首轮流片(MPW 或工程流片)产生的费用,给予最高 50%的支持。

1.吸引优质企业落户奖励:对新设立或新迁入的集成电路企业设计、设备和材料类企业,实缴资本超过2000万元的,按照企业实缴资本的10%给予资助,每家企业资助最高500万元;

2019 年 5 月常州武进区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

用于研发的多项目晶圆(MPW)、工程片试流片补助

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

六、企业新研制成功并交付用户使用的首批次高端集成电路产品,上海市探索给予一定支持。

3、天津

一、对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业,给予流片费用最高10%、年度总额不超过500万元的补贴。

对于在本市进行化合物半导体全掩模首轮验证性有偿试流片的本市 IC 设计企业,首轮流片费用累计在 1000 万元以上(含 1000 万元),给予 IC 设计企业流片费用 10%的支持;首轮流片费用累计在 500 万元以上、小于 1000 万元(含 500 万元、不含 1000 万元),给予 IC 设计企业流片费用 7%的支持;首轮流片费用累计小于 500 万元(不含 500 万元),给予 IC 设计企业流片费用 5%的支持。

《关于本市进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》2017年

2016 年 5 月贵阳市出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

b)用于研发的MPW,高校或科研单位按照不高于MPW直接费用80%的额度进行资助。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元。

5.流片补助

27、武汉

五、鼓励企业通过上市、收购控股上市公司、新三板挂牌等直接融资方式募集资金。其中,报江苏证监局辅导并取得备案通知书的拟上市企业,给予最高不超过50万元的奖励;首次公开发行股票(IPO)申请材料被中国证监会正式受理的拟上市企业,给予最高不超过50万元的奖励;首次公开发行股票,并在境内A股上市的企业,且募集资金80%以上投资无锡地区,给予最高不超过100万元的奖励;企业在境外交易所首发上市的企业,且募集资金80%以上投资无锡地区,给予最高不超过200万元的奖励;收购控股上市公司(买壳、借壳),且将工商注册地迁入无锡市区的企业,给予最高不超过 100 万元的奖励;企业在新三板成功挂牌,给予最高不超过30万元的奖励,补助办法按照锡委发〔2015〕56号文件执行。

2019 年 7 月龙岗区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

二、设立上海市集成电路产业基金。积极支持符合条件的集成电路企业通过上海股权托管交易中心科技创新板挂牌、首次公开发行股票、发行债券等多种方式筹集资金,拓宽直接融资渠道。

对进行重点支持领域工程产品流片的集成电路企业,给予其该款产品掩模版制作费用的 50%或首轮流片费用的 30%的支持。

专项支持资金采用后补贴方式安排使用。资金支持比例不超过产品流片费用的30%,流片费具体包括:IP授权费、掩膜版费、测试化验加工费。单个企业年度支持总金额不超过1500万元。

本市 IC 设计企业委托非本市集成电路制造企业完成首轮全掩模(Full Mask)工程产品流片,达到可以提供给集成电路系统整机厂商的芯片示范应用水准,给予 IC 设计企业流片费用总额 1.5%的支持。

九、新增工业用地优先保障重大集成电路项目生产用地,落实用地指标,按相关政策实行地价优惠;切实保障集成电路产业对电、水、气等生产要素的需求,提升电、水、气供给服务品质,对符合条件的企业纳入省直购电交易,鼓励成都能源综合服务公司对重点企业协调优价供电。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元,连续支持 3 年。

获得支持的项目,应当符合以下条件:

对在本区集成电路生产企业进行重点支持领域的工程产品流片的设计企业,按该款产品掩模版制作费用的 60%或者首轮流片费用的 30%给予研发支持。

天津

8、昆山

在本《实施细则》第四条中认定的产业园区内租用研发、生产或办公用房的本地集成电路企业(单位),自首租日起5年内,按照先交后补的形式,给予租金50%的补助,每家企业补助的建筑面积不超过1000平方米,年度补助总金额不超过30万元。购买产业园区房产的企业不得申报。存在转租、合租、共用及已享受其他类似场地经营租金补助等情况的企业不得申报。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元。

六、支持微电子产业关键技术和高端产品研发。每年重点支持30个左右拥有自主知识产权、市场前景好的优秀微电子产品研发类项目,按照项目总投入的20%给予支持,每个项目支持最高不超过100万元,单个企业每年累计不超过200万元。

图片 1

对集成电路设计企业首次工程流片进行资助,按首次工程流片费用的30%给予奖励,每个企业全年资助最高300万元。利用本辖区企业集成电路生产线流片的,按首次流片费用的60%给予奖励,每家全年资助最高600万元;

3.1 滨海新区

无锡

2019 年 3 月南京浦口区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

3.对租用集成电路产业园区研发、生产、办公场所的企业,前两年免收租金、后三年按50%租金标准缴交,生产性企业最大优惠面积1500平方米,设计企业最大优惠面积500平方米。

对集成电路设计企业参加多项目晶圆项目,按照直接费用的 80%给予支持;对设计企业掩模制作费用,按照直接费用的 40%给予支持;对设计企业工程片、试流片加工费用的 40%给予支持。三项支持合计计算。

6.对采用多项目晶圆(MPW)进行产品研发的企业,按MPW直接费用的70%(高校或科研院所按80%)和工程片试流片加工费的30%给予补助,单一企业年度最高限额250万元;对利用晋华集成电路生产线流片的企业,按首次工程流片费用(含IP授权或购置、掩模板制作、流片等)的40%给予补助,单一企业年度最高限额500万元。

对集成电路设计企业首次工程流片进行资助,按首次工程流片费用(含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等)的 30%进行支持。

五、本地集成电路设计企业研发并首次在本地应用的自主芯片或模组,规模化应用达到500万元及以上的,对应用方以重大专项方式,给予其实际投入的30%、最高不超过300万元的补助。

2016 年 12 月北京中关村国家自主创新示范区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

十三、对集成电路设计企业通过担保机构贷款融资的,按企业缴纳担保费的50%给予补贴,单家企业每年补贴不超过100万元。

16.1 合肥高新区

一、产业资金支持

2018 年 12 月莆田市出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

3.支持集成电路设计环节重点领域的发展。对我市重点发展领域的集成电路设计企业开展的符合一定条件的工程产品首轮流片,按照该款产品掩膜版制作费用的60%或首轮流片费用的30%给予最高不超过100万元研发支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元。

五、对于向IP提供商购买IP(含Foundry IP模块)进行研发的IC企业,给予采购金额最高10%、年度总额不超过200万元的补贴;对于为IC企业提供IP复用、共享设计工具软件或测试与分析系统的第三方IC设计平台,给予购买费用最高20%、年度总额不超过100万元的补贴。

对于提供化合物半导体全掩模首轮验证性无偿试流片的本市代工企业,首轮流片成本费用累计在 900 万元以上(含 900 万元),给予代工企业流片成本费用 50%的支持;首轮流片成本费用累计 300 万元以上、小于 900 万元(含 300 万元,不含 900 万元),给予代工企业流片成本费用 20%的支持;首轮流片成本费用小于 300 万元(不含 300 万元),给予代工企业流片成本费用 10%的支持。

三、 成长支持

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元。

上海

如果一个城市招商,只是靠政策恐怕不会长远;一个企业落户只是看补贴,估计这种企业也不会长久。

《武汉东湖新技术开发区关于促进招商引资的实施意见》2017年

3、大部分城市的流片补贴只是流于形式,为了招商工作而写,多是给出一个补贴比例和最高补贴限额,无外乎就是比哪个城市支持的金额更大,而对工艺等没有具体要求,造成鱼龙混杂,对真正进行高端先进 IC 设计的公司不利。

集成电路项目固定资产投资补助

注:多项目晶圆(Multi Project Wafer,简称 MPW):就是将多种具有相同工艺的集成电路设计放在同一个硅圆片上、在同一生产线上流片,制造完成后,每个设计项目可以得到数十片芯片样品,这一数量足够用于设计开发阶段的实验、测试。而实验费用就由所有参加多项目晶圆的项目按照各自所占的芯片面积分摊,极大地降低了产品开发风险。这就很象我们都想吃巧克力,但是我们没有必要每个人都去买一盒,可以只买来一盒分着吃,然后按照各人吃了多少付钱。多项目晶圆提高了设计效率,降低了开发成本,为设计人员提供了实践机会,并促进了集成电路设计成果转化,对 IC 设计人才的培训,及新产品的开发研制均有相当的促进作用。

北京

对 IC 设计企业开展的符合一定条件的工程产品首轮流片,按该产品掩模制版费用的 60%或首轮流片费用的 30%给予支持。

三、成长激励政策

17、芜湖

芜湖

对区内集成电路设计、制造企业进行工程流片的费用,按照当年实际发生额给予 50%的支持。

四、对集成电路设计企业产品光罩、流片(含掩模版等)费用的30%及从第三方购买IP(含Foundry 的IP模块)费用的30%予以补贴,以上费用补贴总额单个企业每年最高不超过500万元。

2018 年绍兴越城区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

六、联动支持

对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业,给予流片费用最高 10%、年度总额不超过 500 万元的补贴;对于进行化合物半导体全掩膜首轮验证性流片的企业,给予流片费用最高 50%、年度总额不超过 500 万元的补贴;对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业(单位),给予 MPW 直接费用最高 40%、年度总额不超过 100 万元的补贴。

2.对年度销售收入超过1、3、5、10亿元的生产性企业,分别参照其当年比上年新增增值税、企业所得税地方留成部分的50%、40%、30%、20%予以奖励,奖励时限为自首次超过上述销售收入标准之一起3年内。

对于首次完成全掩模工程产品流片或开展多项目晶圆首轮流片的集成电路设计企业,叠加市级奖补给予直接费用最高不超过 60%的支持;对再次完成全掩模工程产品流片的,给予直接费用最高不超过 50%的支持。

一、重点支持28纳米以下先进生产线以及射频电路、微机电系统(MEMS)等特色专用工艺生产线建设新型显示、信息通信设备、物联网、卫星应用等新兴领域芯片设计开发,芯片级、圆片级、硅通孔、三维封装等先进封装测试技术产业化,以及配套关键设备和材料研发和产业化项目。

工艺制程达到 45nm 及以下的,单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元。

1.对由长沙经开区管委会推荐申报或备案、在集成电路领域获得国家专项立项及资金支持、且在本地产业化的集成电路项目,给予该项目实际到账资金50%的配套支持,同一企业单个项目配套总额不超过500万元。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元。

(2)第三方平台使用补助。使用经IC领导小组认定的第三方IC设计平台提供的IP复用、共享设计工具软件或测试与分析等服务的集成电路企业(单位),每年度按其所支付给第三方平台服务费(实际费用)的50%给予补助,每家企业(单位)每年补助最高不超过100万元。

鼓励集成电路设计企业开展符合一定条件的工程产品首轮流片,按照该款产品掩模版制作费用的 60%或首轮流片费用的 30%给予支持。

二、有效保障产业空间

对利用坪山区企业集成电路生产线流片的,按首次流片费用的 60%进行支持。

2.对获得军队科研项目主管部门(军委装备发展部或军委科技委)集成电路相关领域的立项及资金支持的集成电路企业,给予该企业实际到账资金50%的配套支持,同一企业单个项目配套总额不超过50万元。

26、莆田

五、完善集成电路产业链

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元。

2.对获批省级企业技术中心、工程技术研究中心、重点实验室的企业,一次性奖励120万元;对获批国家级企业技术中心、工程技术中心、重点实验室的企业,一次性奖励250万元。

用于研发的集成电路企业多项目晶圆(MPW),按照不高于多项目晶圆(MPW)直接费用 70%进行资助,针对硅 CMOS 工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC 工艺最小线宽≤250nm 等两类先进工艺,按照不高于多项目晶圆(MPW)直接费用 80%进行资助;用于研发的集成电路企业工程片试流片按照不高于其加工费 30%进行资助,针对硅 CMOS 工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC 工艺最小线宽≤250nm 等两类先进工艺,工程片试流片按照不高于其加工费 40%进行支持。

本地集成电路企业本地首次工程流片补助

1、对工艺有明确要求,以提升本地设计工艺技术。上海明确规定支持的是 45 纳米及以下工艺,由于 45 纳米及以下费用较高,所以支持额度高达 1500 万元。无锡对工艺也有明确规定,如工艺制程为 45 纳米以上的,单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元;而工艺制程达到 45nm 及以下的,单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元。厦门则针对硅 CMOS 工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC 工艺最小线宽≤250nm 等两类先进工艺,给予更大支持。而常州对工艺要求更甚。工艺制程 40nm 以上产品支持总额不超过 300 万元,工艺制程达到 40nm-28nm(不含 28nm)产品支持总额不超过 500 万元,工艺制程达到 28nm 及以下产品支持总额不超过 800 万元,单一企业年度支持总额最高不超过 1000 万元。

六、对新建的专业技术或综合技术服务平台,给予其项目设备自筹投入的30%、最高不超过500万元的补助;对公共服务平台(机构),给予其服务中小企业收入的10%、最高不超过100万元的补助。

20、珠海

二、对于进行化合物半导体全掩膜首轮验证性流片的企业,给予流片费用最高50%、年度总额不超过500万元的补贴。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元。

四、鼓励引导企业通过兼并、收购、联合、参股等多种形式开展跨地区、跨行业、跨所有制、跨国(境)的兼并重组和投资合作。对成功并购市内外企业(含重点研发机构),按照并购方对目标企业的实际现金购买价格、承担债务金额或者目标企业净资产作价入股金额超1000万元,且合并后有明显成效的企业,最高给予5%的并购补贴,单个项目最高不超过 300 万元,补助办法按照锡委发〔2015〕56号文件执行。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元。

3、对于线宽小于65纳米的新建或扩建12英寸及以上生产线、特色工艺生产线、高端封装测试生产线、关键装备及材料生产线等集成电路产业重大投资项目,北京市政府会鼓励和引导产业发展基金、社会资本对项目进行股权投资,市、区(县)政府对重点项目给予代建厂房或贴息支持。

同时,还对晶圆制造企业给予支持。对集成电路制造企业开放产能为企业代工流片的,按照每片(折合 8 英寸片)100 元的标准给予资金支持。

《重庆市加快集成电路产业发展若干政策》2018年

集成电路设计企业在参加多项目晶圆(MPW)、工程片试流片阶段,市财政对企业多项目晶圆(MPW)直接费用给予最高 70%的支持,区财政再给予 10%的支持;市财政对企业首次工程片流片加工费(含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等)给予最高 30%的支持,区财政再给予 20%的支持。

七、集成电路企业当年获得国家级研发计划或重大专项的,经认定,给予其所获国家拨款额50%的配套资助,最高配套资助额不超过200万元。

2017 年 6 月 22 日厦门海沧区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

2.产业基金:合作设立规模30亿元的集成电路基金;

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元。

2.产业园区租金补助、集成电路项目固定资产投资补助

对 IC 设计企业参加多项目晶圆(MPW)项目,采用 180nm 以上工艺,给予 MPW 直接费用 40%支持;采用 180nm 及以下工艺,给予 MPW 直接费用 45%;对企业在本地代工厂采用 90nm 及以下工艺,给予 MPW 直接费用 50%支持;成立不足 3 年的企业申请首件 MPW 支持,最高给予 MPW 直接费用 80%支持。(实在不知福州本地代工厂有 90nm 及以下工艺)

三、助力成长。每年组织评选集成电路设计龙头企业和成长之星企业,对龙头企业和成长之星企业分别给予不超过300万元和不超过100万元的奖励。支持集成电路设计企业加大研发力度,对企业的新产品开发和研制费用每年给予10%补贴。对年度营业收入突破1亿元、5亿元、10亿元的集成电路设计企业,给予企业核心团队不低于100万元的奖励;对年度营业收入突破30亿元、50亿元、100亿元的集成电路设计企业,给予企业核心团队不低于200万元的奖励。对获得风险投资的集成电路设计企业,按照获得投资额度10%的比例给予不超过2000万元的财政补贴。对本地集成电路设计企业并购区外企业的,给予贷款贴息或补贴,不超过1000万元。对试制成功的芯片开始大规模量产销售,自上缴企业增值税年度起,给予相当于当年该企业所缴增值税地方留成部分全额的支持,每个企业补贴期不超过3年,3年累计不超过500万元。

2019 年 2 月宁波高新区出台政策对多项目晶圆(MPW)和全掩模流片进行支持。

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